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紫外激光清洗机
针对微米、亚微米颗粒的高精密清洗设备产品特点:1. 能满足其他大型清洗设备所不能达到的清洗需求。2. 操作简单  通电即可运行,便捷易上手,可用于长时间作业。产品应用领域:1. 半
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产品参数

针对微米、亚微米颗粒的高精密清洗设备

产品特点:

1. 能满足其他大型清洗设备所不能达到的清洗需求。

2. 操作简单  通电即可运行,便捷易上手,可用于长时间作业。

产品应用领域:

1. 半导体材料、电子电路、芯片制备及3C硬件产业。

2. 芯片、电极、磁头、磁盘以及各种微电子产品.

产品优势:

全封闭超净间设计

长焦深设计

可定制平台

基本参数:

设备型号/Model

RL-UQ5-A

RL-UQ10-A

RL-UQ20-A

输出功率/Average output power

5W

10W

15W

功率调节范围/Output tunability

10-100%(连续可调)

功率稳定性/Stability

<3%

冷却方式/Cooling

水冷

电力要求/Power supply

单相220V±10%  50-60Hz

环境湿度/Operating humility

20%-80%

场镜焦距/Focal length

50mm-500mm(可选)

扫描路径/Scanning path

5种任选

有效焦深/Rayleith length

20mm(可定制)



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